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400-677-0098
熱解氮化硼化學氣相生長爐
熱解氮化硼化學氣相生長爐
產品描述：
用于氮化硼的化學氣相涂層與生長
應用范圍：
OLED坩堝、PBN板材/環(huán)舟、VGF坩堝、LEC坩堝等。產品純度≥99.999%/99.9999%。

熱解氮化硼化學氣相生長爐技術特征

采用先進的進控制技術，能精密控制BCl3/NH3的流量和壓力，爐膛內沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動??；

多通道工藝氣路，配合旋轉料臺，無沉積死角；

多級尾氣處理系統，能高效處理腐蝕性尾氣、固體副產物，環(huán)境友好；

可選配最新設計的防腐蝕真空機組，持續(xù)工作時間長，維修率低；

適于工藝氣氛：真空/H2/N2/Ar/BCl3/NH3。


熱解氮化硼化學氣相生長爐產品規(guī)格

參數\型號VCVD-0305-BNVCVD-0608-BNVCVD-0612-BNVCVD-0812-BNVCVD-1015-BNVCVD-1218-BNVCVD-1315-BNVCVD-1520-BN
工作區(qū)尺寸 φ×H（mm）300×500600×800600×1200800×12001000×15001200×18001300×15001500×2000
最高溫度（℃）2000
溫度均勻性（℃）±5±7.5/±10±7.5/±10±7.5/±10±10/±15±10/±15±10/±15±15/±20
極限真空度（Pa）1-100
壓升率（Pa/h）0.67
加熱方式電阻

以上參數可根據工藝要求進行調整，不作為驗收依據，具體以技術方案和協議為準。

熱解氮化硼化學氣相生長爐配置選擇

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